Код 8486 20 900 3
МАШИНЫ И АППАРАТУРА ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ИЛИ ЭЛЕКТРОННЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ УСТАНОВКИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА ИЛИ ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН
РАЗДЕЛ XVI
84
8486
8486 20
…
8486 20 900 3
| Импортная пошлина: | 0% | |
| Экспортная пошлина: | Отсутствует | |
| Ввозной НДС: | 20% |
Документы, необходимые для ввоза (вывоза)
Приведенный список документов основан на коде товара по ТН ВЭД и является ориентировочным. Необходимость получения документов зависит от характеристик конкретного товара.
Свяжитесь с нами для получения более точной информации.
Мы готовы оформить для Вас все эти документы.
Документы экспортного контроля
Виды документов: Идентификационное заключение ФСТЭК, Лицензия ФСТЭК, Разрешение КЭК.
Документы требуются при вывозе с территории России (иногда при ввозе) товаров двойного назначения (или товаров, которые потенциально могут быть отнесены к таковым).
Под товарами двойного назначения понимается продукция, которая потенциально может быть использована как в гражданской, так и в военной сфере.
Примеры декларирования по данному коду
8486 20 900 3
УСТАНОВКА СТРУЙНОЙ ОТМЫВКИ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ И ТРАФАРЕТОВ С МИКРОПРОЦЕССОРНЫМ УПРАВЛЕНИЕМ С ПИТАНИЕМ ОТ СЕТИ 220В/50ГЦ. ; 230V/50HZ, В КОМПЛЕКТЕ С ПРИНАДЛЕЖНОСТЯМИ (ОПЦИИ ДЛЯ ФЛЮСОВАНИЯ) ; (ФИРМА) IMO GMBH, ГЕРМАНИЯ; (TM) IMO
8486 20 900 3
УСТАНОВКИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА И ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН: ; А ПЛАЗМЕННОЙ ОЧИСТКИ ATTO, В УКАЗАННОЙ КОМПЛЕКТАЦИИ, ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН И ПОДЛОЖЕК РАЗМЕРОМ ДО 200 ММ В ДИАМЕТРЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИХ ЛАБОРАТОРИЙ ПРИ ПРОВЕДЕНИИ НИОКР, ОКР И НА ОПЫТНЫХ И; (ФИРМА) DIENER ELECTRONIC GMBH + CO. KG; (TM) DIENER ELECTRONIC
8486 20 900 3
УСТАНОВКИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА ИЛИ ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН: ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТЕЙ ПРИ ПРОИЗВОДСТВЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ, ЭЛЕКТРОННЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ. НЕ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ; ГЕНЕРАТОР АТМОСФЕРНОЙ ПЛАЗМЫ СЕРИИ "MONOJET", МОДЕЛЬ MONOJET STANDARD СО СТАНЦИЕЙ ОХЛАЖДЕНИЯ. УСТАНОВКА (ГЕНЕРАТОР) АТМОСФЕРНОЙ ПЛАЗМЫ MONOJET STANDARD ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТЕЙ С ПОМОЩЬЮ ПЛАЗМЫ АТМОСФЕРНОГО ДАВЛЕНИЯ. ОСНОВНАЯ; (ФИРМА) ADVANCED MACHINES SARL; (TM) ADVANCED MACHINES
8486 20 900 3
УСТАНОВКИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА ИЛИ ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН: ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТЕЙ ПРИ ПРОИЗВОДСТВЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ, ЭЛЕКТРОННЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ. НЕ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ; А ПЛАЗМЕННОЙ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ МОДЕЛЬ ZEPTO "TYP B". ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ ОБРАБОТКИ НЕБОЛЬШИХ ОБРАЗЦОВ В R& D-ЛАБОРАТОРИЯХ И НА ОПЫТНЫХ ПРОИЗВОДСТВАХ. КЕРАМИКА 60?48 ММ: ОЧИСТКА ПЕРЕД НАПЫЛЕНИЕМ, МИКРОСВАРКОЙ; УДАЛЕНИЕ ОСТАТКОВ ФР; ; (ФИРМА) DIENER ELECTRONIC VERTRIEBS GMBH + CO; (TM) DIENER ELECTRONIC
8486 20 900 3
УСТАНОВКИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА ИЛИ ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН, НЕ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ; ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ, СЕРИЯ ION. УСТАНОВКА ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ ОЧИСТКИ И АКТИВАЦИИ ПОВЕРХНОСТЕЙ, ДЛЯ РАЗЛИЧНЫХ ПРИМЕНЕНИЙ В МИКРОЭЛЕКТРОНИКЕ, БИОМЕДИЦИНСКИХ ТЕХНОЛОГИЯХ И ДРУГИХ ОТРАСЛЯХ. ЭЛЕКТРОПИТАНИЕ: 110-240 В; (ФИРМА) PVA TEPLA AMERICA, INC. ; (TM) PVA TEPLA AMERICA
8486 20 900 3
МОДУЛЬ ХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ В СОСТАВЕ: ПЛИТА НАГРЕВА, ВАННА 3-ХКАСКАДНОЙ ПРОМЫВКИ, ВАННА ФИНИШНОЙ ПРОМЫВКИ. ДЛЯ ВЫПОЛНЕНИЯ ОПЕРАЦИЙ ХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ (ОЧИСТКИ И ТРАВЛЕНИЯ) ИЗДЕЛИЙ В ОБЪЕМЕ ВОДНЫХ РАСТВОРОВ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ПЛИТЫ НАГРЕВА И ПОСЛЕДУЮЩЕЙ ТРЕХКАСКАДНОЙ И ФИНИШНОЙ ПРОМЫВКАМИ, ДЛЯ ГРАЖДАНСКОГО ПРИМЕНЕНИЯ ; (ФИРМА) АО "АГЕНТСТВО БАЗОВЫХ ИНЖЕНЕРНЫХ РЕШЕНИЙ"; (TM) ОТСУТСТВУЕТ
8486 20 900 3
УСТАНОВКИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА ИЛИ ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН: ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТЕЙ ПРИ ПРОИЗВОДСТВЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ, ЭЛЕКТРОННЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ. НЕ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ; ГЕНЕРАТОР АТМОСФЕРНОЙ ПЛАЗМЫ СЕРИИ "MONOJET", МОДЕЛЬ MONOJET STANDARD СО СТАНЦИЕЙ ОХЛАЖДЕНИЯ. УСТАНОВКА (ГЕНЕРАТОР) АТМОСФЕРНОЙ ПЛАЗМЫ MONOJET STANDARD ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТЕЙ С ПОМОЩЬЮ ПЛАЗМЫ АТМОСФЕРНОГО ДАВЛЕНИЯ. ОСНОВНАЯ; (ФИРМА) ADVANCED MACHINES SARL; (TM) ADVANCED MACHINES
8486 20 900 3
УСТАНОВКА ДЛЯ ВОДНОЙ ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН, ЖЕСТКИХ ПОДЛОЖЕК И ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ ОТ МИКРОЧАСТИЦ, ОСТАТКОВ ФЛЮСОВ И ПРОЧИХ ХИМИЧЕСКИХ ЗАГРЯЗНЕНИЙ. ; НАПРЯЖЕНИЕ ПИТАНИЯ 220В/50ГЦ. ОЧИСТКА ПРОИЗВОДИТСЯ ПОСЛЕДОВАТЕЛЬНО В СООТВЕТСТВИИ С ЗАДАННОЙ ПРОГРАММОЙ, ГОРЯЧЕЙ ИЛИ ХОЛОДНОЙ ДЕИОНИЗИРОВАННОЙ ВОДОЙ И (ИЛИ) ОПОЛАСКИВАНИЕМ. ТЕМПЕРАТУРА ОТ 0 ДО +80 ГРАДУСОВ, В КОМПЛЕКТЕ С ПРИНАДЛЕЖНОСТЯМИ. ; (ФИРМА) ELMA SCHMIDBAUER GMBH, ГЕРМАНИЯ; (TM) ELMA
8486 20 900 3
УСТАНОВКИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА И ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН: ; А ПЛАЗМЕННОЙ ОЧИСТКИ ATTO , В УКАЗАННОЙ КОМПЛЕКТАЦИИ, ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН И ПОДЛОЖЕК РАЗМЕРОМ ДО 200 ММ В ДИАМЕТРЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИХ ЛАБОРАТОРИЙ ПРИ ПРОВЕДЕНИИ НИОКР, ОКР И НА ОПЫТНЫХ И; (ФИРМА) DIENER ELECTRONIC GMBH + CO. KG; (TM) DIENER ELECTRONIC
8486 20 900 3
УСТАНОВКИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА И ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН: ; А ПЛАЗМЕННОЙ ОЧИСТКИ ATTO , ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН И ПОДЛОЖЕК РАЗМЕРОМ ДО 200 ММ В ДИАМЕТРЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИХ ЛАБОРАТОРИЙ ПРИ ПРОВЕДЕНИИ НИОКР, ОКР И НА ОПЫТНЫХ И МЕЛКОСЕРИЙНЫХ; (ФИРМА) DIENER ELECTRONIC GMBH + CO. KG; (TM) DIENER ELECTRONIC
8486 20 900 3
УСТАНОВКА ДЛЯ ВОДНОЙ ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН, ЖЕСТКИХ ПОДЛОЖЕК И ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ ОТ МИКРОЧАСТИЦ, ОСТАТКОВ ФЛЮСОВ И ПРОЧИХ ХИМИЧЕСКИХ ЗАГРЯЗНЕНИЙ. ; НАПРЯЖЕНИЕ ПИТАНИЯ 220В/50ГЦ. ОЧИСТКА ПРОИЗВОДИТСЯ ПОСЛЕДОВАТЕЛЬНО В СООТВЕТСТВИИ С ЗАДАННОЙ ПРОГРАММОЙ, ГОРЯЧЕЙ ИЛИ ХОЛОДНОЙ ДЕИОНИЗИРОВАННОЙ ВОДОЙ И (ИЛИ) ОПОЛАСКИВАНИЕМ. ТЕМПЕРАТУРА ОТ 0 ДО +80 ГРАДУСОВ, В КОМПЛЕКТЕ С ПРИНАДЛЕЖНОСТЯМИ. ; (ФИРМА) ELMA SCHMIDBAUER GMBH, ГЕРМАНИЯ; (TM) ELMA
8486 20 900 3
УСТАНОВКА КОНДИЦИОНИРОВАНИЯ ЗАГОТОВОК ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ–ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ КОНДИЦИОНИРОВАНИЯ И ОЧИСТКИ ЗАГОТОВОК ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ ОТ МЕХАНИЧЕСКИХ ЗАГРЯЗНЕНИЙ(ПЫЛИ) А ТАКЖЕ СНЯТИЯ СТАТИЧЕСКОГО ЗАРЯДА ПЕРЕД ПОСЛЕДУЮЩИМИ ОПЕРАЦИЯМИ. ; : ПРЕДСТАВЛЯЕТ СОБОЙ МОДУЛЬ ГОРИЗОНТАЛЬНОЙ СТРУЙНОЙ ОБРАБОТКИ ЗАГОТОВОК ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ ОБОРУДОВАННЫХ СООТВЕТСТВУЮЩЕЙ АРМАТУРОЙ (НАСОСЫ , ТРУБОПРОВОДЫ , ФОРСУНКИ И ПР. ) И КОНВЕЙЕРНУЮ РОЛИКОВУЮ СИСТЕМУ С ФОРСУНКАМИ СВЕРХУ И СНИЗУ, КОРПУС ИЗ НЕРЖАВЕЮЩЕЙ; (ФИРМА) UNIVERSAL P. C. B. EQUIPMENT CO. , LTD; (TM) UNIVERSAL
8486 20 900 3
УСТАНОВКА ДЛЯ ВОДНОЙ ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН, ЖЕСТКИХ ПОДЛОЖЕК И ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ ОТ МИКРОЧАСТИЦ, ОСТАТКОВ ФЛЮСОВ И ПРОЧИХ ХИМИЧЕСКИХ ЗАГРЯЗНЕНИЙ. ; НАПРЯЖЕНИЕ ПИТАНИЯ 220В/50ГЦ. ОЧИСТКА ПРОИЗВОДИТСЯ ПОСЛЕДОВАТЕЛЬНО В СООТВЕТСТВИИ С ЗАДАННОЙ ПРОГРАММОЙ, ГОРЯЧЕЙ ИЛИ ХОЛОДНОЙ ДЕИОНИЗИРОВАННОЙ ВОДОЙ И (ИЛИ) ОПОЛАСКИВАНИЕМ. ТЕМПЕРАТУРА ОТ 0 ДО +80 ГРАДУСОВ, В КОМПЛЕКТЕ С ПРИНАДЛЕЖНОСТЯМИ. ; (ФИРМА) ELMA SCHMIDBAUER GMBH, ГЕРМАНИЯ; (TM) ELMA
8486 20 900 3
УСТАНОВКИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА И ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН: ; А ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ PICO В УКАЗАННОЙ НИЖЕ КОМПЛЕКТАЦИИ ПРЕДНАЗНАЧЕНЫ ГЛАВНЫМ ОБРАЗОМ ДЛЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН И ПОДЛОЖЕК РАЗМЕРОМ ДО 100 ММ В ДИАМЕТРЕ ДЛЯ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИХ ЛАБОРАТОРИЙ ПРИ ПРОВЕДЕНИИ НИОКР, ; (ФИРМА) DIENER ELECTRONIC GMBH + CO. KG; (TM) DIENER ELECTRONIC
8486 20 900 3
УСТАНОВКА GASONICS, В КОМПЛЕКТЕ, ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ БЕЗЗАРЯДОВОГО УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА И УДАЛЕНИЯ ПОЛИМЕРОВ, БЫВШАЯ В УПОТРЕБЛЕНИИ, 2003 ГОД ВЫПУСКА, ПОСТАВЛЯЕТСЯ В ЧАСТИЧНО-РАЗОБРАННОМ ВИДЕ ДЛЯ УДОБСТВА ТРАНСПОРТИРОВКИ : ОСНОВНОЙ СОСТАВ КОМПЛЕКТА: ГАЗОРАСПРЕДЕЛИТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА, ОТКАЧНАЯ СИСТЕМА, ГЕНЕРАТОР МОЩНОСТЬЮ НЕ МЕНЕЕ 600 ВТ, ; ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА С ПОЛУПРОВОДНИКОВ GASONICS AURA1000/A1000, ИСПОЛЬЗУЕТСЯ ПРИ СОЗДАНИИ БИС И СБИС В ПРОЦЕССАХ УДАЛЕНИЯ СЛОЯ ФОТОРЕЗИСТА С ПОВЕРХНОСТИ ПЛАСТИНЫ И ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ЗАЧИСТКИ ПЕРЕД ИОННЫМ ЛЕГИРОВАНИЕМ И; (ФИРМА) GASONICS INC; (TM) GASONICS
8486 20 900 3
ПОЛУАВТОМАТИЧЕСКАЯ ВОДНО-АБРАЗИВНАЯ СИСТЕМА (УСТАНОВКА) ДЛЯ ОЧИСТКИ СТРУЕЙ ВЫСОКОГО ДАВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН ОТ ОБЛОЯ, НАПРЯЖЕНИЕ 380 В, ЧАСТОТА 50/60 ГГЦ, МОЩНОСТЬ 6. 0 КВТ, ДАВЛЕНИЕ ВОЗДУХА 6-12 ПАСКАЛЬ, РАСХОД ВОДЫ 60-1420 ЛИТРОВ В; ЧАС, РАСХОД АБРАЗИВНОЙ ЧИСТЯЩЕЙ СМЕСИ 250 КГ В МЕСЯЦ, 12 РЕЖИМОВ РАБОТЫ ОЧИСТКИ, СЛУЖИТ ДЛЯ ОЧИСТКИ И УДАЛЕНИЯ ЗАГРЯЗНЯЮЩИХ ВЕЩЕСТВ С МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ВЫВОДОВ КОРПУСОВ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ (ПЛАСТИН) ПЕРЕД ГАЛЬВАНИЗАЦИЕЙ ПРИ ПРОИЗВОДСТВЕ; (ФИРМА) FOXSIGN TECHNOLOGY, CORP; (TM) FOXSIGN TECHNOLOGY
8486 20 900 3
УСТАНОВКИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА ИЛИ ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН, НЕ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ; ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ, СЕРИЯ ION. УСТАНОВКА ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ ОЧИСТКИ И АКТИВАЦИИ ПОВЕРХНОСТЕЙ, ДЛЯ РАЗЛИЧНЫХ ПРИМЕНЕНИЙ В МИКРОЭЛЕКТРОНИКЕ, БИОМЕДИЦИНСКИХ ТЕХНОЛОГИЯХ И ДРУГИХ ОТРАСЛЯХ. ЭЛЕКТРОПИТАНИЕ: 110-240 В; (ФИРМА) PVA TEPLA AMERICA, INC. ; (TM) PVA TEPLA AMERICA
8486 20 900 3
УСТАНОВКА ДЛЯ ОЧИСТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН, ЭЛЕКТРОННЫХ ПЛАТ И ФОТОШАБЛОНОВ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ; ВУХСТОРОННЕЙ ОТМЫВКИ И ОЧИСТКИ ПЛАСТИН И ФОТОШАБЛОНОВ, МОДЕЛЬ LSC-4000. В ЧАСТИЧНО РАЗОБРАННОМ ВИДЕ ДЛЯ УДОБСТВА ТРАНСПОРТИРОВКИ. ОБЕСПЕЧИВАЕТ ВОЗМОЖНОСТЬ ДВУХСТОРОННЕЙ МЕХАНИЧЕСКОЙ (ЩЕТОЧНОЙ) , МЕГАЗВУКОВОЙ, ХИМИЧЕСКОЙ ОТМЫВКИ; (ФИРМА) NАNO-МАSТЕR INC; (TM) NАNO-МАSТЕR
8486 20 900 3
ПОЛУАВТОМАТИЧЕСКАЯ УСТАНОВКА УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА В ПРОЦЕССАХ ВЗРЫВНОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ, МОДЕЛЬ "QS S200 SM", АРТ. S5001334-1ШТ. ПРЕДНАЗНАЧЕНА ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА СО СЛОЯМИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ И ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПЛЁНОК (LIFT-OFF) С ПОДЛОЖКИ (КРЕМНИЕВЫХ, КЕРАМИЧЕСКИХ И СТЕКЛЯННЫХ ПЛАСТИН) КОМБИНИРОВАННЫМ МЕТОДОМ СТРУЙНОЙ ОТМЫВКИ, ОБРАБОТКИ ГОРЯЧИМ РЕАКТИВОМ, МЕГАЗВУКОВОЙ ОЧИСТКИ, ПРОДУВКИ АЗОТОМ. ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ РАДИОЭЛЕКТРОННАЯ ПРОМЫШЛЕННОСТЬ. ; (ФИРМА) OBDUCAT EUROPE GMBH; (TM) ОТСУТСТВУЕТ
8486 20 900 3
ОБОРУДОВАНИЕ ПРОМЫШЛЕННОЕ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ЭЛЕКТРОННЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ: Э/ПИТАНИЕ - 380В/40 КГЦ, ГАБАРИТ. РАЗМ. - 1030*850*640 ММ; УСТАНОВКА ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ, ПРЕДНАЗНАЧ. ДЛЯ УДАЛЕНИЯ ОСТАТКОВ ФОТОРЕЗИСТА С ПОВЕРХНОСТИ МИКРОСХЕМ В ПЛАЗМЕННОЙ СРЕДЕ, ДЛЯ ПОДГОТОВКИ ПОВЕРХНОСТИ ПЕРЕД МИКРОСВАРКОЙ И МИКРОМОНТАЖОМ, ВСЕГО; (ФИРМА) AXIC CORPORATION; (TM) AXIC