Код 8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ПРОЧИЕ, ДЛЯ АППАРАТУРЫ ПОДСУБПОЗИЦИИ 8486 40 000 5
РАЗДЕЛ XVI
84
8486
8486 90
…
8486 90 900 3
| Импортная пошлина: | 0% | |
| Экспортная пошлина: | Отсутствует | |
| Ввозной НДС: | 20% |
Документы, необходимые для ввоза (вывоза)
Приведенный список документов основан на коде товара по ТН ВЭД и является ориентировочным. Необходимость получения документов зависит от характеристик конкретного товара.
Свяжитесь с нами для получения более точной информации.
Мы готовы оформить для Вас все эти документы.
Документы экспортного контроля
Виды документов: Идентификационное заключение ФСТЭК, Лицензия ФСТЭК, Разрешение КЭК.
Документы требуются при вывозе с территории России (иногда при ввозе) товаров двойного назначения (или товаров, которые потенциально могут быть отнесены к таковым).
Под товарами двойного назначения понимается продукция, которая потенциально может быть использована как в гражданской, так и в военной сфере.
Примеры декларирования по данному коду
8486 90 900 3
ЭЛЕКТРОДЫ ИЗ КРЕМНИЕВЫХ ПЛАСТИН, ЛЕГИРОВАННЫХ БОРОМ. ЯВЛЯЕЮТСЯ РАСХОДНОЙ ЧАСТЬЮ (ЭЛЕКТРОДОМ) КОНДЕНСОРНОГО БЛОКА, КОТОРЫЙ В СВОЮ ОЧЕРЕДЬ ЯВЛЯЕТСЯ ОДНИМ ИЗ НЕСКОЛЬКИХ БЛОКОВ ПРОЕКЦИОННОГО ОПТИЧЕСКОГО МОДУЛЯ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ КОЛОННЫ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ УСТАНОВКИ. НЕ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ: ; МЕНТ; (ФИРМА) ; (TM)
8486 90 900 3
ЭЛЕКТРОДЫ ИЗ КРЕМНИЕВЫХ ПЛАСТИН, ЛЕГИРОВАННЫХ БОРОМ. ЯВЛЯЕЮТСЯ РАСХОДНОЙ ЧАСТЬЮ (ЭЛЕКТРОДОМ) КОНДЕНСОРНОГО БЛОКА, КОТОРЫЙ В СВОЮ ОЧЕРЕДЬ ЯВЛЯЕТСЯ ОДНИМ ИЗ НЕСКОЛЬКИХ БЛОКОВ ПРОЕКЦИОННОГО ОПТИЧЕСКОГО МОДУЛЯ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ КОЛОННЫ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ УСТАНОВКИ. НЕ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ: ; МЕНТ; (ФИРМА) ; (TM)
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПУТЕМ ПРОЕЦИРОВАНИЯ ИЛИ НАНЕСЕНИЯ РИСУНКА МАСКИ НА СЕНСИБИЛИЗИРОВАННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ: ; ФОТОМАСКИ ИЗГОТОВЛЕНЫ ИЗ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА, ПРЕДСТАВЛЯЮЩЕГО ПО ХИМИЧЕСКОМУ СОСТАВУ ЧИСТЫЙ КРЕМНЕЗЕМ С ТРИГОНАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ, УДЕЛЬНЫМ ВЕСОМ 2, 2 И КОЭФФИЦИЕНТОМ ЛИНЕЙНОГО РАСШИРЕНИЯ НЕ БОЛЕЕ 5Х10-6 ГРАД-1. КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА СОСТАВЛЯЮТ
8486 90 900 3
ЭЛЕКТРОДЫ ИЗ КРЕМНИЕВЫХ ПЛАСТИН, ЛЕГИРОВАННЫХ БОРОМ. ЯВЛЯЕЮТСЯ РАСХОДНОЙ ЧАСТЬЮ (ЭЛЕКТРОДОМ) КОНДЕНСОРНОГО БЛОКА, КОТОРЫЙ В СВОЮ ОЧЕРЕДЬ ЯВЛЯЕТСЯ ОДНИМ ИЗ НЕСКОЛЬКИХ БЛОКОВ ПРОЕКЦИОННОГО ОПТИЧЕСКОГО МОДУЛЯ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ КОЛОННЫ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ УСТАНОВКИ. НЕ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ: ; МЕНТ
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПУТЕМ ПРОЕЦИРОВАНИЯ ИЛИ НАНЕСЕНИЯ РИСУНКА МАСКИ НА СЕНСИБИЛИЗИРОВАННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ: ; ФОТОМАСКИ ИЗГОТОВЛЕНЫ ИЗ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА, ПРЕДСТАВЛЯЮЩЕГО ПО ХИМИЧЕСКОМУ СОСТАВУ ЧИСТЫЙ КРЕМНЕЗЕМ С ТРИГОНАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ, УДЕЛЬНЫМ ВЕСОМ 2, 2 И КОЭФФИЦИЕНТОМ ЛИНЕЙНОГО РАСШИРЕНИЯ НЕ БОЛЕЕ 5Х10-6 ГРАД-1. КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА СОСТАВЛЯЮТ
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПУТЕМ ПРОЕЦИРОВАНИЯ ИЛИ НАНЕСЕНИЯ РИСУНКА МАСКИ НА СЕНСИБИЛИЗИРОВАННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ: ; ФОТОМАСКИ ИЗГОТОВЛЕНЫ ИЗ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА, ПРЕДСТАВЛЯЮЩЕГО ПО ХИМИЧЕСКОМУ СОСТАВУ ЧИСТЫЙ КРЕМНЕЗЕМ С ТРИГОНАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ, УДЕЛЬНЫМ ВЕСОМ 2, 2 И КОЭФФИЦИЕНТОМ ЛИНЕЙНОГО РАСШИРЕНИЯ НЕ БОЛЕЕ 5Х10-6 ГРАД-1. КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА СОСТАВЛЯЮТ
8486 90 900 3
ЭЛЕКТРОДЫ ИЗ КРЕМНИЕВЫХ ПЛАСТИН, ЛЕГИРОВАННЫХ БОРОМ. ЯВЛЯЕЮТСЯ РАСХОДНОЙ ЧАСТЬЮ (ЭЛЕКТРОДОМ) КОНДЕНСОРНОГО БЛОКА, КОТОРЫЙ В СВОЮ ОЧЕРЕДЬ ЯВЛЯЕТСЯ ОДНИМ ИЗ НЕСКОЛЬКИХ БЛОКОВ ПРОЕКЦИОННОГО ОПТИЧЕСКОГО МОДУЛЯ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ КОЛОННЫ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ УСТАНОВКИ. НЕ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ: ; ПРОТОТИП 1 ЭЛЕМЕНТА
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПУТЕМ ПРОЕЦИРОВАНИЯ ИЛИ НАНЕСЕНИЯ РИСУНКА МАСКИ НА СЕНСИБИЛИЗИРОВАННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ: ; ФОТОМАСКИ ИЗГОТОВЛЕНЫ ИЗ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА, ПРЕДСТАВЛЯЮЩЕГО ПО ХИМИЧЕСКОМУ СОСТАВУ ЧИСТЫЙ КРЕМНЕЗЕМ С ТРИГОНАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ, УДЕЛЬНЫМ ВЕСОМ 2, 2 И КОЭФФИЦИЕНТОМ ЛИНЕЙНОГО РАСШИРЕНИЯ НЕ БОЛЕЕ 5Х10-6 ГРАД-1. РАЗМЕРЫ ПОЛИРОВАННОГО
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПУТЕМ ПРОЕЦИРОВАНИЯ ИЛИ НАНЕСЕНИЯ РИСУНКА МАСКИ НА СЕНСИБИЛИЗИРОВАННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ: ; ФОТОМАСКИ ИЗГОТОВЛЕНЫ ИЗ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА, ПРЕДСТАВЛЯЮЩЕГО ПО ХИМИЧЕСКОМУ СОСТАВУ ЧИСТЫЙ КРЕМНЕЗЕМ С ТРИГОНАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ, УДЕЛЬНЫМ ВЕСОМ 2, 2 И КОЭФФИЦИЕНТОМ ЛИНЕЙНОГО РАСШИРЕНИЯ НЕ БОЛЕЕ 5Х10-6 ГРАД-1. РАЗМЕРЫ ПОЛИРОВАННОГО
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПУТЕМ ПРОЕЦИРОВАНИЯ ИЛИ НАНЕСЕНИЯ РИСУНКА МАСКИ НА СЕНСИБИЛИЗИРОВАННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ: ; ФОТОМАСКИ ИЗГОТОВЛЕНЫ ИЗ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА, ПРЕДСТАВЛЯЮЩЕГО ПО ХИМИЧЕСКОМУ СОСТАВУ ЧИСТЫЙ КРЕМНЕЗЕМ С ТРИГОНАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ, УДЕЛЬНЫМ ВЕСОМ 2, 2 И КОЭФФИЦИЕНТОМ ЛИНЕЙНОГО РАСШИРЕНИЯ НЕ БОЛЕЕ 5Х10-6 ГРАД-1. РАЗМЕРЫ ПОЛИРОВАННОГО
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПУТЕМ ПРОЕЦИРОВАНИЯ ИЛИ НАНЕСЕНИЯ РИСУНКА МАСКИ НА СЕНСИБИЛИЗИРОВАННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ: ; ФОТОМАСКИ, РАЗМЕР 152. 4 * 152. 4 * 6. 4 ММ, ВКЛЮЧАЯ УПАКОВКУ, ИЗГОТОВЛЕНЫ ИЗ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА, ПРЕДСТАВЛЯЮЩЕГО ПО ХИМИЧЕСКОМУ СОСТАВУ ЧИСТЫЙ КРЕМНЕЗЕМ С ТРИГОНАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ, УДЕЛЬНЫМ ВЕСОМ 2, 2 И КОЭФФИЦИЕНТОМ ЛИНЕЙНОГО РАСШИРЕНИЯ НЕ
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПУТЕМ ПРОЕЦИРОВАНИЯ ИЛИ НАНЕСЕНИЯ РИСУНКА МАСКИ НА СЕНСИБИЛИЗИРОВАННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ: ; ФОТОМАСКИ, РАЗМЕР 152. 4 * 152. 4 * 6. 4 ММ, ВКЛЮЧАЯ УПАКОВКУ, ИЗГОТОВЛЕНЫ ИЗ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА, ПРЕДСТАВЛЯЮЩЕГО ПО ХИМИЧЕСКОМУ СОСТАВУ ЧИСТЫЙ КРЕМНЕЗЕМ С ТРИГОНАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ, УДЕЛЬНЫМ ВЕСОМ 2, 2 И КОЭФФИЦИЕНТОМ ЛИНЕЙНОГО РАСШИРЕНИЯ НЕ
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ: ПЕЛЛИКЛЫ (РАМКА ИЗ АНОДИРОВАННОГО АЛЮМИНИЯ С ПОЛИМЕРНОЙ ПЛЁНКОЙ) , НЕ ВОЕННОГО НАЗНАЧЕНИЯ; ПЕЛЛИКЛ, ИСПОЛЬЗУЮТСЯ ПРИ ИЗГОТОВЛЕНИИ ИНТЕГРАЛЬНЫХ МИКРОСХЕМ В МИКРОЭЛЕКТРОННОМ ПРОИЗВОДСТВЕ. ПЕЛЛИКЛ ПРЕДСТАВЛЯЕТ СОБОЙ РАМКУ ИЗ АНОДИРОВАННОГО АЛЮМИНИЯ, ПОКРЫТУЮ ПЛЁНКОЙ С МАЛЫМ ОПТИЧЕСКИМ ПУТЁМ НА ДЛИНЕ ВОЛНЫ ЭКСИМЕРНОГО КРИПТОН-ФТОРНОГО ЛАЗЕРА В
8486 90 900 3
ЧАСТИ УСТАНОВКИ ЛАЗЕРНОЙ ЛИТОГРАФИИ: ПОДЛОЖКИ ДЛЯ ФОТОШАБЛОНОВ, ПРЕДСТАВЛЯЮТ СОБОЙ ПРЕЦИЗИОННЫЕ ПОЛИРОВАННЫЕ ПЛАСТИНКИ ИЗ ПЛАВЛЕННОГО КВАРЦА С ВЫСОКОЙ ОДНОРОДНОСТЬЮ, ПРЕДНАЗНАЧЕНЫ ДЛЯ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ В УСТАНОВКАХ ЛАЗЕРНОЙ ЛИТОГРАФИИ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАСОК ИЛИ ФОТОШАБЛОНОВ, ВСЕГО xx ШТ В КАРТОННОЙ КОРОБКЕ; ПОДЛОЖКИ ДЛЯ ФОТОШАБЛОНОВ, ДИАМЕТР 102 ММ, ТОЛЩИНА 12, 5 ММ
8486 90 900 3
ЧАСТИ УСТАНОВКИ ЛАЗЕРНОЙ ЛИТОГРАФИИ: ; ПОДЛОЖКИ ДЛЯ ФОТОШАБЛОНОВ, ПРЕДСТАВЛЯЮТ СОБОЙ ПРЕЦИЗИОННЫЕ ПОЛИРОВАННЫЕ ПЛАСТИНКИ ИЗ ПЛАВЛЕННОГО КВАРЦА С ВЫСОКОЙ ОДНОРОДНОСТЬЮ, ПРЕДНАЗНАЧЕНЫ ДЛЯ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ В УСТАНОВКАХ ЛАЗЕРНОЙ ЛИТОГРАФИИ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАСОК ИЛИ ФОТОШАБЛОНОВ
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПУТЕМ ПРОЕЦИРОВАНИЯ ИЛИ НАНЕСЕНИЯ РИСУНКА МАСКИ НА СЕНСИБИЛИЗИРОВАННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ: ; ФОТОМАСКИ, РАЗМЕР 153X153X6 ММ , ИЗГОТОВЛЕНЫ ИЗ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА, ПРЕДСТАВЛЯЮЩЕГО ПО ХИМИЧЕСКОМУ СОСТАВУ ЧИСТЫЙ КРЕМНЕЗЕМ С ТРИГОНАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ, УДЕЛЬНЫМ ВЕСОМ 2, 2 И КОЭФФИЦИЕНТОМ ЛИНЕЙНОГО РАСШИРЕНИЯ НЕ БОЛЕЕ 5Х10-6 ГРАД-1. РАЗМЕРЫ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА СОСТАВЛЯЮТ 153X153X6 ММ (РАЗМЕР СВЯЗАН С ВОЗМОЖНОСТЯМИ ОБОРУДОВАНИЯ НА ПРЕДПРИЯТИИ) , НА ЕГО РАБОЧЕЙ СТОРОНЕ НАХОДИТСЯ ХРОМОВОЕ ПОКРЫТИЕ ТОЛЩИНОЙ МЕНЬШЕ ОДНОГО МИКРОМЕТРА. В ХРОМОВОМ ПОКРЫТИИ СОЗДАН НЕОБХОДИМЫЙ ТОПОЛОГИЧЕСКИЙ РИСУНОК. РИСУНОК ЗАВИСИТ ОТ СЛОЖНОСТИ ПРОЕКТА (ОТ ПРОСТЕЙШИХ МЕТОК [КВАДРАТЫ, ЛИНИИ] ДО СЛОЕВ СО СЛОЖНОЙ КОНФИГУРАЦИЕЙ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПО КМОП ТЕХНОЛОГИИ) . К РАБОЧЕЙ СТОРОНЕ СТЕКЛА ПО ПЕРИФЕРИИ ПРИКЛЕЕНА РАМКА ИЗ АНОДИРОВАННОГО АЛЮМИНИЕВОГО СПЛАВА, НА КОТОРУЮ НАТЯНУТА ТОНКАЯ ПРОЗРАЧНАЯ ПЛЕНКА-ПЕЛЛИКУЛА ДЛЯ ЗАЩИТЫ РАБОЧЕЙ СТОРОНЫ ШАБЛОНА ОТ ПЫЛИ И ПОВРЕЖДЕНИЙ. ФОТОМАСКИ ЗАГРУЖАЮТСЯ И ТРАНСПОРТИРУЕТСЯ В СПЕЦИАЛЬНОМ ГЕРМЕТИЧЕСКОМ КОНТЕЙНЕРЕ. ФОТОМАСКИ ИСПОЛЬЗУЮТСЯ В УСТАНОВКЕ ПРОЕКЦИОННОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ ASML PAS5500 ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ РИСУНКА НА СЛОЕ ФОТОРЕЗИСТА, НАНЕСЕННОГО НА КРЕМНИЕВУЮ ПЛАСТИНУ, ПУТЕМ ЗАСВЕТКИ ЛАМПОЙ ЧЕРЕЗ МАСКУ. ЯВЛЯЮТСЯ ПРИНАДЛЕЖНОСТЬЮ МАШИНЫ, ИСПОЛЬЗУЕМОЙ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ НА ПРЕДПРИЯТИИ. ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ -МИКРОЭЛЕКТРОНИКА. 426_МАСКА, ГРЕЙД E, РАЗМЕР 152. 4 * 152. 4 * 6. 4 ММ; (ФИРМА) SHENZHEN LONGTU PHOTOMASK CO. ,LTD. ; (TM) STAR MASK
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПУТЕМ ПРОЕЦИРОВАНИЯ ИЛИ НАНЕСЕНИЯ РИСУНКА МАСКИ НА СЕНСИБИЛИЗИРОВАННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ: ; ФОТОМАСКИ ИЗГОТОВЛЕНЫ ИЗ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА, ПРЕДСТАВЛЯЮЩЕГО ПО ХИМИЧЕСКОМУ СОСТАВУ ЧИСТЫЙ КРЕМНЕЗЕМ С ТРИГОНАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ, УДЕЛЬНЫМ ВЕСОМ 2, 2 И КОЭФФИЦИЕНТОМ ЛИНЕЙНОГО РАСШИРЕНИЯ НЕ БОЛЕЕ 5Х10-6 ГРАД-1. РАЗМЕРЫ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА СОСТАВЛЯЮТ 152, 4 X 152, 4 X 6, 4 ММ (РАЗМЕР СВЯЗАН С ВОЗМОЖНОСТЯМИ ОБОРУДОВАНИЯ НА ПРЕДПРИЯТИИ) , НА ЕГО РАБОЧЕЙ СТОРОНЕ НАХОДИТСЯ ХРОМОВОЕ ПОКРЫТИЕ ТОЛЩИНОЙ МЕНЬШЕ ОДНОГО МИКРОМЕТРА. В ХРОМОВОМ ПОКРЫТИИ СОЗДАН НЕОБХОДИМЫЙ ТОПОЛОГИЧЕСКИЙ РИСУНОК. РИСУНОК ЗАВИСИТ ОТ СЛОЖНОСТИ ПРОЕКТА (ОТ ПРОСТЕЙШИХ МЕТОК [КВАДРАТЫ, ЛИНИИ] ДО СЛОЕВ СО СЛОЖНОЙ КОНФИГУРАЦИЕЙ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПО КМОП ТЕХНОЛОГИИ (КОМПЛЕМЕНТАРНАЯ СТРУКТУРА МЕТАЛЛ-ОКСИД- ПОЛУПРОВОДНИК) ). К РАБОЧЕЙ СТОРОНЕ СТЕКЛА ПО ПЕРИФЕРИИ ПРИКЛЕЕНА РАМКА ИЗ АНОДИРОВАННОГО АЛЮМИНИЕВОГО СПЛАВА, НА КОТОРУЮ НАТЯНУТА ТОНКАЯ ПРОЗРАЧНАЯ ПЛЕНКА-ПЕЛЛИКУЛА ДЛЯ ЗАЩИТЫ РАБОЧЕЙ СТОРОНЫ ШАБЛОНА ОТ ПЫЛИ И ПОВРЕЖДЕНИЙ. ФОТОМАСКИ ЗАГРУЖАЮТСЯ И ТРАНСПОРТИРУЮТСЯ В СПЕЦИАЛЬНОМ ГЕРМЕТИЧЕСКОМ КОНТЕЙНЕРЕ, ВСКРЫВАТЬ КОТОРЫЙ МОЖНО ТОЛЬКО В УСЛОВИЯХ ЧИСТОЙ ЗОНЫ. ФОТОМАСКА ИСПОЛЬЗУЕТСЯ В УСТАНОВКЕ ПРОЕКЦИОННОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ ASML PAS 5500 ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ РИСУНКА НА СЛОЕ ФОТОРЕЗИСТА, НАНЕСЕННОГО НА КРЕМНИЕВУЮ ПЛАСТИНУ, ПУТЕМ ЗАСВЕТКИ ЛАМПОЙ ЧЕРЕЗ МАСКУ. ЯВЛЯЕТСЯ ПРИНАДЛЕЖНОСТЬЮ МАШИНЫ, ИСПОЛЬЗУЕМОЙ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ НА ПРЕДПРИЯТИИ. 401_МАСКА, ГРЕЙД I (PSM) , РАЗМЕР 152. 4 * 152. 4 * 6. 4 ММ; (ФИРМА) WUXI ZHONGWEI MASK ELECTRONICS CO. , LTD; (TM) ZW
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ПОДСУБПОЗИЦИИ; ДЕРЖАТЕЛЬ ПЕЛЛИКЛАДЛЯ МАШИНЫ MLI 8002 ЧЕРНАЯ РАМКА ИМЕЕТ СТАНДАРТНЫЙ РАЗМЕР ДЛЯ УСТАНОВКИ MLI 8002 ВНУТРЕННЯЯ БЕЛАЯ РАМКА ДОЛЖНА ИМЕТЬ СПЕЦИФИЧЕСКИЙ РАЗМЕР И ФОРМУ, КОТОРАЯ ПОДХОДИТ ДЛЯ ПЕЛЛИКЛА ТИПА602 1017 HFLC. ЭТО ЧАСТЬ ОБОРУДОВАНИЯ, КОТОРОЕ ИСПОЛЬЗУЕТСЯ ДЛЯ ПРОЕЦИРОВАНИЯ РИСУНКА ФОТО МАСКИ НА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ПЛАСТИНЫ ДЛЯ СОЗДАНИЯ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ. ПЕЛЛИКЛ - ЭТО ЗАЩИТНАЯ КОНСТРУКЦИЯ, КОТОРАЯ МОНТИРУЕТСЯ НА РАБОЧУЮ ПОВЕРХНОСТЬ ФОТОШАБЛОНА. ; (ФИРМА) MICRO LITHOGRAPHY INC. ; (TM) MICRO LITHOGRAPHY
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПУТЕМ ПРОЕЦИРОВАНИЯ ИЛИ НАНЕСЕНИЯ РИСУНКА МАСКИ НА СЕНСИБИЛИЗИРОВАННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ: ; ФОТОМАСКИ ИЗГОТОВЛЕНЫ ИЗ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА, ПРЕДСТАВЛЯЮЩЕГО ПО ХИМИЧЕСКОМУ СОСТАВУ ЧИСТЫЙ КРЕМНЕЗЕМ С ТРИГОНАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ, УДЕЛЬНЫМ ВЕСОМ 2, 2 И КОЭФФИЦИЕНТОМ ЛИНЕЙНОГО РАСШИРЕНИЯ НЕ БОЛЕЕ 5Х10-6 ГРАД-1. РАЗМЕРЫ ПОЛИРОВАННОГО КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА СОСТАВЛЯЮТ 152, 4 X 152, 4 X 6, 4 ММ (РАЗМЕР СВЯЗАН С ВОЗМОЖНОСТЯМИ ОБОРУДОВАНИЯ НА ПРЕДПРИЯТИИ) , НА ЕГО РАБОЧЕЙ СТОРОНЕ НАХОДИТСЯ ХРОМОВОЕ ПОКРЫТИЕ ТОЛЩИНОЙ МЕНЬШЕ ОДНОГО МИКРОМЕТРА. В ХРОМОВОМ ПОКРЫТИИ СОЗДАН НЕОБХОДИМЫЙ ТОПОЛОГИЧЕСКИЙ РИСУНОК. РИСУНОК ЗАВИСИТ ОТ СЛОЖНОСТИ ПРОЕКТА (ОТ ПРОСТЕЙШИХ МЕТОК [КВАДРАТЫ, ЛИНИИ] ДО СЛОЕВ СО СЛОЖНОЙ КОНФИГУРАЦИЕЙ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПО КМОП ТЕХНОЛОГИИ (КОМПЛЕМЕНТАРНАЯ СТРУКТУРА МЕТАЛЛ-ОКСИД-ПОЛУПРОВОДНИК ) ). К РАБОЧЕЙ СТОРОНЕ СТЕКЛА ПО ПЕРИФЕРИИ ПРИКЛЕЕНА РАМКА ИЗ АНОДИРОВАННОГО АЛЮМИНИЕВОГО СПЛАВА, НА КОТОРУЮ НАТЯНУТА ТОНКАЯ ПРОЗРАЧНАЯ ПЛЕНКА-ПЕЛЛИКУЛА ДЛЯ ЗАЩИТЫ РАБОЧЕЙ СТОРОНЫ ШАБЛОНА ОТ ПЫЛИ И ПОВРЕЖДЕНИЙ. ФОТОМАСКИ ЗАГРУЖАЮТСЯ И ТРАНСПОРТИРУЮТСЯ В СПЕЦИАЛЬНОМ ГЕРМЕТИЧЕСКОМ КОНТЕЙНЕРЕ, ВСКРЫВАТЬ КОТОРЫЙ МОЖНО ТОЛЬКО В УСЛОВИЯХ ЧИСТОЙ ЗОНЫ. ФОТОМАСКА ИСПОЛЬЗУЕТСЯ В УСТАНОВКЕ ПРОЕКЦИОННОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ ASML PAS 5500 ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ РИСУНКА НА СЛОЕ ФОТОРЕЗИСТА, НАНЕСЕННОГО НА КРЕМНИЕВУЮ ПЛАСТИНУ, ПУТЕМ ЗАСВЕТКИ ЛАМПОЙ ЧЕРЕЗ МАСКУ. ЯВЛЯЕТСЯ ПРИНАДЛЕЖНОСТЬЮ МАШИНЫ, ИСПОЛЬЗУЕМОЙ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ НА ПРЕДПРИЯТИИ. 401_МАСКА, ГРЕЙД I (PSM) , РАЗМЕР 152. 4 * 152. 4 * 6. 4 ММ; (ФИРМА) WUXI ZHONGWEI MASK ELECTRONICS CO. , LTD; (TM) ZW
8486 90 900 3
ЧАСТИ И ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ АППАРАТУРЫ ПОДСУБПОЗИЦИИ 8486 20 900 5: ; ПЕЛЛИКЛЫ; (ФИРМА) MICRO LITHOGRAPHY, INC. ; (TM) MLI